# 2025年新品發(fā)布會#

日期：2025年10月10日

時間：8：30-18：30

近期我司新推出升級了ULVAC愛發(fā)科VLP-SB080KC真空角閥作為高真空系統(tǒng)的核心控制組件，其技術參數(shù)體現(xiàn)了精密工程與可靠性的結合。該閥采用金屬密封結構，漏率低至1×10?? mbar·L/s，可穩(wěn)定維持超高真空環(huán)境，閥體材質選用耐腐蝕的SUS304不銹鋼，配合鎳基合金波紋管，確保在450℃高溫烘烤工況下仍保持優(yōu)異性能?

1。其直角式設計提供L型流道，壓損系數(shù)小于0.8，特別適合需要快速氣體切換的半導體工藝場景。驅動系統(tǒng)支持24V DC氣動控制，響應時間僅0.5秒，閥板表面鏡面拋光處理（Ra≤0.4μm），配合氟橡膠密封圈，實現(xiàn)超過50萬次的開關壽命?1。接口標準為KF40快裝法蘭，兼容ISO-KF和NW40兩種連接方式，背壓耐受能力達2barg，滿足復雜真空系統(tǒng)的多工況需求。模塊化設計支持手動應急操作，在斷電情況下可通過手輪實現(xiàn)閥位切換，維護時無需拆解系統(tǒng)?1。
ULVAC愛發(fā)科VLP-SB080KC真空角閥憑借其超高密封性能和快速響應特性，成為半導體制造、真空鍍膜等精密工藝領域的理想選擇。其金屬密封結構可有效維持1×10?? mbar·L/s的極限真空度，特別適用于晶圓蝕刻、薄膜沉積等對潔凈度要求嚴苛的工藝環(huán)節(jié)，能避免傳統(tǒng)橡膠密封導致的微粒污染問題?1。在真空鍍膜設備中，該閥的直角式流道設計可實現(xiàn)氣體介質的快速切換，配合0.5秒的響應速度，能精準控制鍍膜腔室的氣體成分比例，顯著提升薄膜均勻性。此外，其耐高溫特性使該閥成為CVD（化學氣相沉積）工藝的關鍵組件，可在450℃烘烤環(huán)境下長期穩(wěn)定運行，避免因熱變形導致的密封失效?1。對于需要頻繁氣體交換的實驗室真空系統(tǒng)，該閥超過50萬次的開關壽命和模塊化維護設計，大幅降低了設備停機風險。在光伏電池生產(chǎn)線上，其KF40快裝接口能快速匹配不同規(guī)格的真空管路，而背壓耐受能力則確保了工藝氣體排放時的系統(tǒng)穩(wěn)定性。